大日本印刷2nm世代フォトマスク開発を本格開始

2024.03.28

DNPは、半導体製造の最先端プロセスであるEUV露光に対応した2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始しました。2025年度までの開発完了と、2027年度の量産開始を目指します。

🟦大日本印刷2nm世代フォトマスク開発を本格開始｜あさって　電子立国日本の半導体 (note.com)
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